Ang unang kagamitan sa paggawa ng masa para sa paglilinis ng hydrofluoric acid sa China ay matagumpay na inilipat sa pabrika ng panel

Ang Hydrofluoric Acid Cleaning ay isang pangunahing link sa proseso ng pagpapakita. Ang epekto ng paglilinis nito ay direktang nakakaapekto sa pangwakas na pagganap, kahusayan at katatagan ng istraktura ng aparato, at nauugnay sa rate ng ani ng panghuling produkto. Ang paglilinis ng hydrofluoric acid ay hindi lamang nag -aalis ng mga impurities sa ibabaw ng aktibong layer ngunit din ang mga passivate sa ibabaw, sa gayon binabawasan ang kapasidad ng adsorption ng mga impurities ng interface. Ang mga kinakailangan para sa kalinisan sa ibabaw ay mahigpit at teoretikal ay hindi pinapayagan ang pagkakaroon ng anumang mga particle, metal ions, o mga organikong adhesives. Ang nakalakip, singaw ng tubig at mga layer ng oxide ay nangangailangan ng flat na antas ng atomic sa ibabaw upang matiyak ang pagiging maaasahan ng proseso ng proseso ng pagproseso ng post.